半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。
制備電子工業(yè)用超純水的工藝流程：
① 預(yù)處理－反滲透－水箱－陽床－陰床－混合床－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－精制混床－精密過濾器－用水對象
② 預(yù)處理－一級反滲透－加藥機(jī)( PH調(diào)節(jié))－中間水箱－第二級反滲透－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5 μ m精密過濾器－用水對象
③ 預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5 μ m精密過濾器－用水對象
④ 預(yù)處理--反滲透--中間水箱--水泵--EDI裝置--純化水箱--純水泵--紫外線殺菌器--精制拋光混床---TOC分解器－0.2或0.5 μ m精密過濾器－用水對象 (新工藝)
電子超純水設(shè)備特點(diǎn)：
設(shè)備通常由多介質(zhì)過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構(gòu)成前期預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵均設(shè)有壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。
電子超純水應(yīng)用領(lǐng)域：
⊙ 半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
⊙ 超純材料和超純化學(xué)試劑；
⊙ 實(shí)驗室和中試車間；
⊙ 汽車、家電表面拋光處理；
⊙ 光電產(chǎn)品；
⊙ 其他高科技精微產(chǎn)品；
